Første spadestik til hvad der vil blive klodens mest avancerede chips er taget. Processen, som omtales som ’first light’, hvor det lykkedes at koncentrere særlig intens uv-lys, så der kan fremstilles ekstra finkornede halvlederkredsløb på siliciums-plader.
Metoden, som kaldes Twinscan EXE High-NA EUV litografi, kan opnå en opløsning ned til otte nanometer ved en enkel eksponering – næsten dobbelt så tæt som klodens nuværende mest avancerede proces på 13,5 nanometer.
Bedriften er signeret af den hollandske chip-specialist ASML, som leverer de særlige litografiske komponenter til chip-producenter såsom Intel, TSMC og Samsung, skriver Reuters.
Første kunde til den nye proces bliver Intel, som vil integrere sin første Twinscan EXE maskine fra ASML i en ny fabrik i Hillsboro, i den amerikanske delstat Oregon.
Ved at fintune processen yderlige ved at printe flere litografiske lag oveni hinanden, sigter Intel efter at være først til at kunne nå frem til den såkaldte ’14A’ proces, svarende til 1,4 nanometer litografi (14 Ångstrøm).
I dag er Intels med avancerede fremstillingteknik ’Intel 7’ processen, som svarer til syv nanometer fremstillingsteknologi.
Intel forventer dog at tage et kvantespring i printteknologi i de kommende år, ved hurtigt at blæse forbi både ’Intel 4’ og ’Intel 3’ processer for at kunne matche eller endda den nuværende teknologiske frontløber, taiwanske TSMC, når det gælder 18A processen, skriver netmediet Toms Hardware.
