IBM har besluttet at melde sig ind i et chip-konsortium, der allerede tæller Intel, AMD og Motorola blandt sine medlemmer. Konsortiet blev oprettet i 1997 af Intel og beskæftiger sig med udviklingen af en ny produktionsteknologi, Extreme Ultra Violet (EUV) litografi, som skal anvendes til processorer med størrelser mindre end 0.10-mikron.
Indtil nu har IBM satset på sin egen teknologi, kaldet Electron Beam Projection (e-beam). IBM vil dog ikke helt opgive e-beam, og selskabet fortæller, at teknologien vil blive udviklet parallelt med EUV. IBM vil dermed sikre sig den nødvendige tekniske know-how til at starte masseproduktion, hvad enten e-beam eller EUV bliver den fremherskende teknologi.
Ifølge Intel vil EUV gøre det muligt at fremstille processorer med 10 GHz i 2005 eller 2006. Omtrent samtidig kommer de første kommercielle produkter, som er fremstillet med EUV litografi, på markedet. I sidste uge kunne Intel meddele, at der er lykkes at fremstille den første "fotomaske" til EUV. En sådan maske er en slags byggeplan til færdige chips.
(Kilde: IDG News Service)
